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      基礎(chǔ)信息Product information
      產(chǎn)品名稱:

      高真空退火爐/高溫介電溫譜儀

      產(chǎn)品型號:

      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

      所在地:北京市

      更新日期:2023-12-14

      產(chǎn)品簡介:

      高真空退火爐/高溫介電溫譜儀可實現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空, 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

      產(chǎn)品特性Product characteristics
      品牌華測

      高真空退火爐

      高真空退火爐/高溫介電溫譜儀儀器介紹:

      華測儀器開發(fā)了一種可實現(xiàn)高的精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空, 高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

      它提高了加熱試驗?zāi)芰ΑM娮锠t和其他爐相比,紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間,再試驗中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講,都能節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系,安全可靠。以提高試驗人員的工作效率,實現(xiàn)溫度控制操作!


      高真空退火爐/高溫介電溫譜儀設(shè)備原理:

      • 輻射加熱

      紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成,紅外線反射面拋光,鍍金,反高光。同時配置水冷裝置。

      • 紅外線燈

      紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成,紅外線反射面拋光,鍍金,反高光。同時配置水冷裝置。

      • 反射光

      反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。


      設(shè)備特點

      • 高速加熱與冷卻方式

      高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷,增設(shè)氣體冷卻裝置,可實現(xiàn)快速冷卻。

      • 溫度高的精度控制

      通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

      • 清潔加熱

      反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS

      • 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

      加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境,低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

      更多應(yīng)用:樣品腔內(nèi)徑≥30mm;      退火爐外徑:≤100mm

      1、電子材料

      半導(dǎo)體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻)

      熱源薄膜形成

      激活離子注入后

      硅化物的形成

      2、陶瓷與無機(jī)材料

      陶瓷基板退火爐

      玻璃基板退火爐。

      3、鋼鐵和金屬材料

      薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

      爐焊接模擬

      高真空熱處理(1000°c以下)

      大氣氣體熔化過程

      壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

      4、復(fù)合材料

      耐熱性評價爐

      無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗爐

      5、其他

      高溫拉伸壓縮試驗爐

      分段分區(qū)控制爐

      溫度梯度爐

      爐氣分析

      超導(dǎo)陶瓷退火爐





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